本設(shè)備采用高精度狹縫涂布技術(shù),專為攻克多層復(fù)合膜制備中涂層均勻性控制、高濕厚漿料烘干變形等行業(yè)難題而設(shè)計,是實現(xiàn)高性能、低缺陷離子膜量產(chǎn)的關(guān)鍵裝備。
最大基材寬幅:≤ 1250 mm (可定制) 涂布速度范圍:0.1 – 2 m/min 烘箱最高溫度:250 °C 烘箱溫度均勻性:± 2 °C 涂層厚度均勻性:≤ ± 1 μm